Технология высокотемпературного плазменного сжигания оборудования промышленного плазменного фотокислородного очистителя - это аккумуляторный разряд высокочастотного (30 кГц) высоковольтного (100 000 вольт) мощного источника питания при определенных условиях. Промышленные выхлопные газы в реакторе резко повышаются от нормальной температуры до 3 тыс. градусов тепла, при двойном действии высоких температур и высоких потенциалов органические загрязняющие компоненты (VOCs) мгновенно ионизируются и разрушаются.

После высокотемпературного плазменного сжигания органические вещества (VOCs) в промышленных выхлопных газах распадаются на мономерные вещества, такие как углерод, углекислыйгаз и водяной пар.

Технология высокотемпературного плазменного сжигания позволяет обрабатывать промышленные выхлопные газы высокой концентрации, сложные компоненты, легковоспламеняющиеся и взрывоопасные, содержащие твердые и маслянистые вещества.

Гуанси Промышленный плазменный фотокислородный очиститель выхлопных газов Ланьчжоу Промышленный плазменный фотокислородный очиститель выхлопных газов